TPM咨詢?nèi)绾翁嵘O備綜合效率？新益為TPM咨詢公司概述：設備綜合效率（OEE）是衡量設備有效產(chǎn)出的核心指標，其計算公式為“OEE=時間開動率×性能開動率×質(zhì)量合格率”。企業(yè)自主提升OEE常陷“單一維度優(yōu)化、數(shù)據(jù)斷層、無長效機制”困境，TPM咨詢通過“全員參與、全要素管控、全周期優(yōu)化”，從“減少停機、提升速度、降低缺陷”三維發(fā)力，系統(tǒng)性破解OEE瓶頸，實現(xiàn)設備效率從“被動修復”到“主動優(yōu)化”的轉(zhuǎn)變。

　　TPM咨詢

　　一、OEE提升核心瓶頸與咨詢破局點

　　時間開動率低：非計劃停機、換型久、微停機未統(tǒng)計，開動率僅50%-60%；咨詢通過“故障預防+快速換型”提至80%+。

　　性能開動率低：設備卡頓、空轉(zhuǎn)浪費，實際速度為額定70%-80%，開動率不足75%；咨詢通過“保養(yǎng)+參數(shù)優(yōu)化”提至90%左右。

　　質(zhì)量合格率低：設備精度/參數(shù)異常致缺陷，合格率85%-90%；咨詢通過“精度校準+過程監(jiān)控”提至95%+。

　　二、核心邏輯：三維協(xié)同優(yōu)化

　　構(gòu)建“時間（預防維護減停機）、性能（最優(yōu)運行釋產(chǎn)能）、質(zhì)量（過程預防降缺陷）”三維閉環(huán)，不孤立優(yōu)化單一維度，實現(xiàn)協(xié)同提升。

　　三、分階段實操路徑

　　（一）OEE瓶頸診斷（1-2周）

　　數(shù)據(jù)采集：連續(xù)1周統(tǒng)計三要素（時間開動率：計劃/停機/換型時間；性能開動率：實際/額定產(chǎn)量、空轉(zhuǎn)時間；質(zhì)量合格率：合格/缺陷數(shù)）；

　　現(xiàn)場驗證：查設備運行（故障集中設備）、維護記錄（計劃保養(yǎng)執(zhí)行）；

　　輸出報告：明確優(yōu)先級（如先解決故障停機）、目標（OEE從55%→75%）。

　　（二）三維落地TPM動作（2-3周/維度）

　　1.時間維度：降停機提開動率

　　故障預防：定“預防清單”（機床每日清導軌、空壓機每周清濾網(wǎng)），計劃維護提前換易損件；

　　快速換型：優(yōu)化步驟（備新模/工具）、分工協(xié)作，換型時間從2小時→1小時內(nèi)；

　　微停機管控：建上報群，5分鐘小問題即時處理，日統(tǒng)計總時長針對性優(yōu)化。

　　2.性能維度：提速度降空轉(zhuǎn)

　　保養(yǎng)釋性能：定“性能優(yōu)化清單”（機床每周潤滑導軌），保養(yǎng)后速度從額定80%→90%；

　　參數(shù)優(yōu)化：調(diào)運行參數(shù)（如機床切削速度800→900rpm），空轉(zhuǎn)時自動降速；

　　消除空轉(zhuǎn)：按設備產(chǎn)能排產(chǎn)，避免“設備等工件”。

　　3.質(zhì)量維度：控缺陷提合格率

　　維護同步校準：維修后試切/試產(chǎn)（如機床校準后測3件尺寸），達標方批量生產(chǎn)；

　　過程監(jiān)控：裝報警裝置（尺寸超差/溫控異常報警），預警即停機調(diào)整。

　　（三）機制固化（2周）

　　可視化監(jiān)控：設“TPM-OEE看板”，實時顯示三要素，低于目標當日排查；

　　考核激勵：班組OEE達標獎500元/月，超1%額外獎100元；評“提升明星”表彰；

　　持續(xù)優(yōu)化：月復盤會對比目標，分析未達原因（如OEE72%離75%差3%，因換型仍耗時），調(diào)整方案（如換型工具升級）。

　　四、避免形式化關(guān)鍵：三個“不脫離”

　　不脫離數(shù)據(jù)：用OEE三要素量化效果，無改善則調(diào)動作；

　　不脫離現(xiàn)場：方案適配設備現(xiàn)狀（老舊設備加密保養(yǎng)）；

　　不脫離全員：培訓操作工查異常、維修工精校準，建“設備效率共同體”。

　　五、價值轉(zhuǎn)化

　　短期：OEE從55%→72%，設備產(chǎn)能提30%+；

　　中期：OEE穩(wěn)定75%+，故障停機降50%，訂單交付周期縮25%；

　　長期：形成“自主優(yōu)化OEE”能力，支撐精益生產(chǎn)，降本增效超200萬元/年。

　　TPM咨詢?nèi)绾翁嵘O備綜合效率？以上就是新益為TPM咨詢公司的相關(guān)介紹，做好企業(yè)的TPM咨詢工作就是為精益生產(chǎn)活動打下基礎(chǔ)，讓精益生產(chǎn)管理在企業(yè)發(fā)展中有一個良好的發(fā)展前提。

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